Мы в социальных сетях

Общество

В Китае создадут оборудование для изготовления чипов без использования американских технологий

Опубликовано

/

Уже в 2021 году компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) из Китая намеревается представить сканер для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете.

Оборудование будет создаваться исключительно с использованием японских и китайских технологий и материалов. Разрабатываться установка будет по техпроцессу до 28 нанометров.

В Китае переход на данный техпроцесс стал настоящим прорывом. Но ряд компаний, в том числе TSMC из Тайваня, уже в 2011 году освоили его. В настоящее время установка SMEE-SSA600 производит микросхемы с техпроцессом 90 нм.

Новейшая установка будет применять аргонофторидный лазер, у которого длина волны составит 193 нм. Однако, вследствие использования жидкостной среды и некоторых других нововведений, техпроцесс будет снижен до 28 нм.

Общество

“Первый канал” проиграл “России 1” по количеству зрителей в новогоднюю ночь

Канал “Россия 1” набрал наибольшую аудиторию в новогоднюю ночь. Об этом рассказали представители российского офиса исследовательской компании Mediascope. Чтобы оценить количество аудитории эксперты используют одни эфирные сутки, они начинаются с […]

Читать дальше

Общество

Украинский Минздрав не разрешил переноса жестких карантинных мер

Перенос жесткого карантина на Украине с 8 января не нашел поддержки в Министерстве здравоохранения страны. Мера, считают там, необходима, чтобы как можно быстрее сбить новую волну заражений COVID-19. В будущем […]

Читать дальше

Общество

Ученым удалось телепортировать частицы на 44 километра

Американские исследователи рассказали об уникальном достижении – они смогли установить новый рекорд по квантовой телепортации. Частицы получилось переместить на расстояние в 44 километра. Передача была произведена при помощи оптоволоконных сетей. […]

Читать дальше

Поиск по сайту

Реклама

Нравится пользователям

Последнее

Популярное

Популярное